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第291章 半导体提议,光刻厂!(2/4)

半导体,也没多少人在意。

可现在王逸今非昔比,成了大名鼎鼎的王董,让bat都不敢小觑。

那就完全不一样了。

这个提议也开始被关注,被重视。

最后结果自然很美好。

秦主任没说的是,支付牌照能这么快就给星逸科技,一方面是星逸科技发展速度恐怖,前景无限,实力不俗。

尤其是星逸xphone1彻底卖爆,证明王逸是实干派,星逸科技是真有实力,而不是炒作派。

另一方面则是王逸提议半导体全产业链国产化,以及智能手机产业链国产化!

这些提议都赢得官方重视,认可,推行。

作为提议者,王逸和星逸科技也因此走到了高层视野中,因此被肯定,支持。

再加上王逸收购高德,让高德从美股退市,后续大a上市,保护郭家战略安全的觉悟,也加分不少!

还有星逸科技在智能手机,半导体,数据中心等高科技领域的产业布局,也被官方肯定,赞许。

若是星逸科技只是个卖衣服的,做美妆的,没有这些高净值产业布局,那也不值一提。

以上四个方面缺一不可,才让支付牌照提前半年,就给办了!

但凡少一个点,这事都难!

王逸做的这些布局,都布到了高层心里。

发展的事业和方向,也都是利国利民。

很难不支持。

王逸笑说:“有了国家机器出手,duv光刻机估计五年左右就能实现国产突破。至于euv光刻机,会费事一点,但也只是时间问题,早晚都会突破的!”

秦主任却没有这么乐观:“duv光刻机已经投入巨资,开始研发了,五年内有希望。而euv光刻机项目,却难度很大,不容乐观。不过,官方是将euv光刻机和duv光刻机,同步开始推进的!”

王逸明白了,两种光刻机是两代技术,或者说euv光刻机是全新的技术。

所以没必要等几年后研发出duv光刻机,再推进euv光刻机研发,这样太慢了。

相反直接立项,两代产品,两代技术,一同研发!

如此魄力,王逸都很佩服。

索性道:“euv光刻机的确困难,需要的上下游产业链太多,咱们差得很远。但换个思路,如果euv光刻机不好做,做一个euv光刻厂……会不会容易一点?”

“euv光刻厂?”秦主任眼睛一亮:“你详细说一说。”

王逸略微思忖,刚想开口,却被秦主任直接打断:

“王董,你稍等下,这种严密的技术性问题,我也不在行,可否让我录个视频,回去给专家院士看?”

“没问题。”王逸摆了摆手。

“谢谢!”秦主任和蔼一笑,当即拿出星逸xphone1,打开视频录制:“好了,王董,请继续说。”

王逸点点头:“众所周知,阿斯麦的euv光刻机之所以厉害,能做到5纳米以下的芯片制程,就是因为它能制造5纳米的极紫外光源,这种光源是未来5纳米以下制程芯片的关键。”

“而duv光刻机的深紫外光源,最多能制造10纳米芯片。通过多重曝光技术,才能量产7纳米,5纳米。甚至5纳米的良品率都不高,成本却不低。至于5纳米以上的4纳米,3纳米,那更不现实,只能靠euv光刻机的极紫外光源。”

“同样,我们本质上需要的不是euv光刻机,而是5纳米的极紫外光源!”

“euv光刻机我们目前造不了,未来难度也很大。但是我们反其道而行,通过其他方式,实现极紫外光源,也能制造出4纳米,3纳米,甚至2纳米,1纳米芯片。”

“比如我之前提到的光刻厂!”王逸顿了顿,继续道:

“建一个光刻厂,通过粒子对撞,实现极紫外光源,然后通过光刻厂的模式,实现euv光刻机的效果。”

……

“当然,我并非半导体专业人士,以上内容只是基于我不成熟的想法,随口一说。”

“能不能实现,我就不知道了。若是不能实现,还请各位大佬海涵。”

至于能不能实现,他也不知道,但理论上应该可以。

前世华清大学的euv光刻机,就是要走这个路线,完全不同于阿斯麦的技术路线。

若是真能实现,直接从根源上避开了阿斯麦的专利。

毕竟极紫外光源的产生方式都不一样,也就没有侵犯专利这一说了。

国产技术突破的难度,不只是要做出同样的产品和等效的技术,还要避开西方的专利壁垒,采取完全不同的技术路线。

这就难上加难了。

但即便如此,前世依旧把工业皇冠上的明珠,差点全部摘秃噜皮。

秦主任笑着伸出手:“谢谢,你这些观点很重要,我这就上报。无论如何,都很感谢。”

“主任言重了,若是我说得不对,你们就当我瞎说,海涵。”

“呵呵,那不会。科学的探索本就是知无不言,言无不尽。何况是这么别出心裁的建议,意义重大!”

王逸摆了摆手:“不成熟的想法罢了,希望有点参考价值。光刻机这个东西难,光刻胶也难,都得看国家机器了。”

秦主任点点头:“放心,光刻胶也是官方大力扶持的领域,必须突破!”

王逸松了口气,若是这些难题官方都逐步搞定,那就稳了。

又交流了一番,王逸离开管委会。

而秦主任则直奔某机要之地,汇报王逸的想法。

不管成不成的,都是一个新的思路,让院士

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